pH值对还原氧化石墨结构及电容性能的影响
关键词:氧化石墨;抗坏血酸; pH 值;电容性能
摘 要:以天然鳞片石墨为原料,利用改进的Hummers 法制备氧化石墨(GO),再将GO 经超声分散,在不同pH 值条件下采用抗坏血酸进 行还原,制备得到还原氧化石墨(rGO)。采用SEM、XRD、恒流充放电测试分析pH 值对样品的微观结构和电容性能的影响。
结果表明:所得样品为片层结构,层间距约为0.348~0.366 nm。随着GO 溶液pH 值的增加,材料的首次放电容量和循环性能都呈现先增大后减小的趋势。在pH 值为
9 的情况下,rGO 的比电容量为141.6 F/g,经过500 次循环,样品容量保持率仍能达到88%。